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纯锡电镀化学之卓越特征 • 在存贮测试以后无颊须产生 • 甲烷磺酸化学根据 • 镀锡厚度Cpk > 2.0 • 白亚光完成之电镀表面
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纯锡电镀化学之卓越特征
• 在存贮测试以后无颊须产生
• 甲烷磺酸化学根据
• 镀锡厚度Cpk > 2.0
• 白亚光完成之电镀表面
• 高速沉积速率
• 高级投掷力量
• 无泡沫形成
• 无污积形成
• 5年内无须更换电镀液
• 适用于不同类型的运行设备
• 适用于在不同基本材料运作(铜,合金42,镍...)